① 在硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。

②在防護(hù)涂層中的應(yīng)用：飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。

③在光學(xué)薄膜領(lǐng)域中的應(yīng)用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。

④在建筑玻璃方面的應(yīng)用：陽(yáng)光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。

⑤在太陽(yáng)能利用領(lǐng)域的應(yīng)用：太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等。

⑥在集成電路制造中的應(yīng)用：薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。

⑦在信息顯示領(lǐng)域的應(yīng)用：液晶屏、等離子屏等。

⑧在信息存儲(chǔ)領(lǐng)域的應(yīng)用：磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等。

⑨在裝飾飾品上的應(yīng)用：手機(jī)殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。

① 鍍覆材料廣泛：可作為真空鍍蒸發(fā)材料有幾十種，包括金屬、合金和非金屬。真空鍍膜加工還可以像多層電鍍一樣，加工出多層結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜，滿足對(duì)涂層各種不同性能的需求；

② 真空鍍膜技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)不能通過(guò)電沉積方法形成鍍層的涂覆：如鋁、鈦、鋯等鍍層，甚至陶瓷和金剛石涂層，這是十分難能可貴的；

③ 真空鍍膜性能優(yōu)良：真空鍍膜厚度遠(yuǎn)小于電鍍層，但涂層的耐摩擦和耐腐蝕性能良好，孔隙率低，而且無(wú)氫脆現(xiàn)象，相對(duì)電鍍加工而言可以節(jié)約大量金屬材料；

③ 環(huán)境效益優(yōu)異：真空鍍膜加工設(shè)備簡(jiǎn)單、占地面積小、生產(chǎn)環(huán)境優(yōu)雅潔凈，無(wú)污水排放，不會(huì)對(duì)環(huán)境和操作者造成危害。在注重環(huán)境保護(hù)和大力推行清潔生產(chǎn)的形勢(shì)下，真空鍍膜技術(shù)在許多方面可以取代電鍍加工。

在真空狀態(tài)下，加熱蒸發(fā)容器中的靶材，使其原子或分子逸出，沉積在目標(biāo)物體表面，形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為：抵抗加熱、電子束、高周波誘導(dǎo)、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學(xué)特性薄膜的材料，主要有使用SiO₂、TiO₂、ZrO₂、MgF₂等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外，樹(shù)脂與玻璃也可以使用、近年來(lái)連紙也變成可蒸鍍。

蒸發(fā)鍍膜的優(yōu)缺點(diǎn)
優(yōu)點(diǎn)：設(shè)備簡(jiǎn)單、容易操作；成膜的速率快，效率高。
缺點(diǎn)：薄膜的厚度均勻性不易控制，蒸發(fā)容器有污染的隱患，工藝重復(fù)性不好，附著力不高。

電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子。氬離子在電場(chǎng)作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶原子，靶原子沉積在基片表面形成膜。二次電子受到磁場(chǎng)影響，被束縛在靶面的等離子體區(qū)域，二次電子在磁場(chǎng)作用下繞靶面做圓周運(yùn)動(dòng)，在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷和氬原子發(fā)生撞擊，電離出大量氬離子轟擊靶材。

磁控濺射的靶材

靶材的材質(zhì)主要有金屬靶材，金屬氧化物靶材等。依據(jù)目標(biāo)靶座的形狀和大小進(jìn)行加工。

磁控濺射優(yōu)缺點(diǎn)
優(yōu)點(diǎn)：工藝重復(fù)性好，薄膜純度高，膜厚均勻，附著力好。
缺點(diǎn)：設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜，濺射靶材一旦穿透就會(huì)導(dǎo)致整塊靶材的報(bào)廢，所以靶材的利用率低。